楼主: 20080808

Zippo底刻用语

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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:04:42 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-7 21:38 发表 ) I- L& ~0 s6 K% d. g7 V1 R

5 d7 U# [7 v& A$ @- P" `% Z. D- o' W' P  q. C) A! M
i fule you本就是一句笑话,好象是周星驰电影出来的吧?没想到他的自尊心这么强大,呵呵6 O! ^2 @0 u, m
下次不熟的人不开玩笑了,没意思:)
( V/ J8 Q9 z5 S
在线但帖子刚打开,回复晚及处理迟了,抱歉!是玩笑的话,这是我气量小了,致歉!让论坛Z友看我们俩笑话,惭愧!
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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:22:21 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-7 21:38 发表 5 A: |) f/ H3 H3 w  _

1 |- A5 C! ~2 _4 N* J) E5 h6 y8 {2 W. }( d; g
i fule you本就是一句笑话,好象是周星驰电影出来的吧?没想到他的自尊心这么强大,呵呵7 x; p! p2 |: _0 y+ h
下次不熟的人不开玩笑了,没意思:)

3 j6 m& m. z. Y; O1 D谢谢你对帖子不妥和有误的地方作出纠正,我会作出较为准确的校正。' w# Y7 w) m+ B) B& v0 m! o. c
也跟你开句玩笑,提出有错而我不纠正,骂娘都该。
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发表于 2009-02-08 02:24:07 | 显示全部楼层
原帖由 20080808 于 2009-2-8 02:04 AM 发表 : \/ k" \( w& ^5 h) Z

; g' a6 k& P" _& J8 V* ^7 j. B在线但帖子刚打开,回复晚及处理迟了,抱歉!是玩笑的话,这是我气量小了,致歉!让论坛Z友看我们俩笑话,惭愧!

, r* @' O7 ^: f$ q; L, s
* v4 W3 S% F; W' U/ u& S6 I1 i5 p昨天我看到你投诉火气也比较大,这事到此为止啦。以后多交流吧。
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 楼主| 发表于 2009-02-08 02:27:03 | 显示全部楼层
原帖由 leooel 于 2009-2-8 02:24 发表 6 E6 c2 S2 u( ^2 l4 ]7 U0 F
: {( g; Y/ X7 L& u( A
# w) e+ ^0 u& j; e- @
昨天我看到你投诉火气也比较大,这事到此为止啦。以后多交流吧。

, d1 E  r; }$ }好的!学无止境!
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发表于 2009-02-08 03:21:40 | 显示全部楼层
从两位的交流之中,学到了很多东西,向两位致敬!
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发表于 2009-02-08 03:32:00 | 显示全部楼层
原帖由 20080808 于 2009-2-8 02:27 发表 , l$ B% M: U5 H1 Y; y/ o7 z

" f' c4 u3 _7 Q; N, V6 B5 A/ `! l好的!学无止境!

& C0 a) E0 I: u( |5 O: |
: S6 D9 Q  Q' U& H" a本身E文也不是我们国人的母语,大家打字的英文有时候稍微随意些就会出错也是情理之中的事情,对2位的沟通解决方式很是佩服,四军章兄的回复也是贴切,很有深意,也对2位资深Z友表示敬意,希望大家效仿.
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 楼主| 发表于 2009-02-08 04:36:15 | 显示全部楼层
谢谢“四军章”和“raymondhx_1129”,惭愧之事!0 F2 ^9 \/ c6 @5 b4 z
帖子的确是冲动下仓促之作,是在整理底刻资料时,突想起有Z友曾问起过这方面资料,急功近利了;之所以急着和“PAT.2023695”交流和查阅资料,就因为感觉帖子表达准确性不高。
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发表于 2009-02-08 14:49:11 | 显示全部楼层
原帖由 PAT.2023695 于 2009-2-8 02:02 发表
# e! Q! L4 B3 I9 b2 {* K& |$ ^% f# a) W9 D' ^/ E6 M
AK版指出的这两点我还有些疑问:- z9 v6 x* `- r
TVD的全称我也查了不少资料 VD代表Vapor Deposition是毫无疑问的 这个T代表Thermal吗?我查了很多官方和民间的资料都没有定论  常用的气相沉积法一般分为化学和物理两大类 如果AK版有权威的出处 恳请与在下分享一下$ r* d+ L, U2 V$ Z, w9 ?

& F8 C7 o6 h( Z2 F第二个问题我跟另一个朋友也讨论过 Co.的标准全称为Company没有问题 Corporation的缩写是Corp.比较合适 这个可以从各大资源库得到认证 偶尔见到有用Co.代表Corporation的 一般也没有异议 简单点说就是可以混用吧 没有太严格的区分 但是 放到ZIPPO公司身上 Co.就只能翻译成Company了 因为ZIPPO制造公司的全名就是Zippo Manufacturing Company 这是公开的信息 可以上官网查询或者找个ZIPPO纸盒反过来看看
0 d. W* }: x1 Y1 d8 r
第二条关于Co.的缩写 我看了下 的确如专利兄所述 zippo公司全称是Zippo Manufacturing Company
5 V: u7 ^8 N* T& Z& S4 n* f+ x关于第一个TVD 由于家庭IP无法登陆文献库 所以使用的是google搜索引擎
& V: l& {  c! O3 NTVD通常有两种意思 一种是true vertical depth 实际垂直深度 这通常用于石油钻井方面
) q' `8 k6 s  t" \另一个就是thermal vapor deposition 热气相沉积 关于中文的翻译不一定准确 但的确存在这种气相沉积法
6 E" s; j% c6 F常用的气相沉积法的确如专利兄所说 分为化学和物理两大类
* S% J2 B9 _% K) H, l6 s$ ^, O8 z但其下还有很多小分类 这里不一一列举
) c1 s+ x8 T3 w, }关于TVD 我这里举一个博士的研究方向(http://www.imre.a-star.edu.sg/personal/getListing_action.asp?strID=liuhf)2 R* ?' v5 d- d5 N) j1 }' C4 n8 |0 J' c
Name:Dr.   Liu Hongfei
Designation:Select
Address:3, Research Link, Singapore 117602
Tel: (65)6874 8047
Fax: (65)6872 0785
Email:
Capability Group:Materials Growth
Research
Research Interests/Areas
  • Molecular beam epitaxial (MBE), Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), thermal vapor deposition (TVD) and DC/RF-magnetron sputtering growth of III-V (/N) and ZnO semiconductor compounds and their related low-dimensional structures and devices; Nanoscale photonic devices; Semiconductor nanostructures: design, processing, characterization and potential applications; Thin films and heterostructures characterizations both structural and optical properties, in-situ and ex-situ techniques; Growth and characterization of diluted magnetic semiconductors (spintronics).
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 楼主| 发表于 2009-02-09 02:22:49 | 显示全部楼层
Co.是Company的缩写,已经得到得到共识。) B3 y# T- s/ X+ g
帖子上1999年年度版底刻的TVD之所以用terminal velocity dive(极速俯冲)缩写,主要是考虑:1.Ti已经是钛的缩写,材质已经出现在底刻,thermal vapor deposition 是化学术语;true vertical depth ,AK版也在google搜索引擎查询了资料,“一种是true vertical depth 实际垂直深度 这通常用于石油钻井方面”,感觉这两种的表达的缩写,Zippo底刻上没必要性出现;2.根据该款机的设计图案及表达的内容,认为terminal velocity dive更为贴切。TVD缩写文献的部份资料,我也有一些,由于出差在外,要明天晚上回到去后,才能提供;Zippo官方资料对该款机的阐述,就TVD表达的阐述,不知可有?明天晚上我也一起查询一下。8 s9 Y! k2 P; O' b
" \- Z$ e+ o3 U: J
[ 本帖最后由 20080808 于 2009-2-9 02:24 编辑 ]
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发表于 2009-02-09 11:35:38 | 显示全部楼层
字体改的太小了,还是字大点容易看清。
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